FZ Silicon Wafer

Opis

FZ Single Crystal Silicon Wafer,Float-zone (FZ) Silicijum je izuzetno čist silicijum sa veoma niskom koncentracijom kiseonika i nečistoća ugljika povučeni tehnologijom rafiniranja vertikalne plutajuće zone.FZ Plutajuća zona je metoda uzgoja monokristalnih ingota koja se razlikuje od CZ metode gdje je sjemenski kristal pričvršćen ispod ingota polikristalnog silicijuma, a granica između sjemenog kristala i polikristalnog kristalnog silicijuma se topi indukcijskim grijanjem RF zavojnice za pojedinačnu kristalizaciju.RF zavojnica i otopljena zona pomiču se prema gore, a pojedinačni kristal se stvrdnjava na vrhu kristala sjemena u skladu s tim.Silicijum u zoni plutanja je osiguran ravnomernom distribucijom dopanta, nižim varijacijama otpornosti, ograničenim količinama nečistoća, značajnim životnim vekom nosioca, visokom otpornošću i silicijumom visoke čistoće.Float-zone silicij je alternativa visoke čistoće kristalima uzgojenim Czochralski CZ postupkom.Sa karakteristikama ove metode, FZ Single Crystal Silicon je idealan za upotrebu u proizvodnji elektronskih uređaja, kao što su diode, tiristori, IGBT, MEMS, diode, RF uređaji i energetski MOSFET-ovi, ili kao supstrat za čestice ili optičke detektore visoke rezolucije. , energetski uređaji i senzori, solarne ćelije visoke efikasnosti itd.

Dostava

FZ Single Crystal Silicon Wafer N-tip i P-tip provodljivosti u Western Minmetals (SC) Corporation može se isporučiti u veličinama od 2, 3, 4, 6 i 8 inča (50 mm, 75 mm, 100 mm, 125 mm, 150 mm i 200 mm) i orijentacije <100>, <110>, <111> sa završnom obradom površine As-cut, Lapped, graved i polirani u pakovanju od pjenaste kutije ili kasete sa kartonskom kutijom izvana.